VSParticle-G1

O gerador de nanopartículas VSPARTICLE usa o princípio da ablação elétrica de um eletrodo formado pelo material concreto do qual as nanopartículas de tamanho controlado são obtidas. Para isso, além do elemento de descarga elétrica (controlado em energia e frequência de descarga), existe um sistema de movimentação que permite manter, de forma constante, a geometria e a distância entre o para-raios e o eletrodo. O tamanho é obtido a partir dos processos de aglomeração que ocorrem dentro do tubo do gerador e que são regidos pelo fluxo de fornecimento de gás, argônio ou nitrogênio ultrapuro.

Estes geradores têm um elevado grau de controle sobre o tamanho das partículas monodispersas (na gama de 0-20 nm), na sua pureza (não há contaminação por reação com outros materiais) e em composição. Tudo isso resulta em uma maneira simples e eficaz (plug and play) de produzir nanopartículas para fins de pesquisa.

 

  • Materiais suportados:
    • Metais nobres: Pt, Au, Ag, Ru, Rh, Rd, Go, W
    • Outros: Cu, Al, Fe, Mg, Ti, V, Nb, Cr, Mo, Mn, Co, Ni, Zn, Ga, Ge, Si, C, Pb, Ag, Cd, In, Sn, Sb
    • Ligas: Inox, Cu-Ni, Cr-Co, Au-Pd, Ag-Pd
    • Diferentes óxidos e materiais dopados: sob demanda
  • Pressão de trabalho: atmosférica.
  • Temperatura de trabalho: Ambiente
  • Vazão de gás: 1 a 30 l / min
  • Gás: Suportado: Ar ou N2 com pureza 5.0
  • Material do eletrodo: Equipamento básico com eletrodo de cobre.
  • Tamanho de partícula primário: 1 átomo a 20 nm
  • Velocidade de ablação: 0,01 – 100 mg / h (dependendo do material)
  • Concentração: 108 – 1011 # cm-3

O uso de um projeto baseado em um reator fechado proporciona um alto grau de segurança no manuseio de nanopartículas. As operações de desmontagem/montagem são realizadas de forma muito simples, o que facilita a limpeza e a manutenção. O uso de gases inertes reduz o risco de piroforicidade, podendo ser filtrado externamente ao sistema e reutilizado quando a produção estiver concluída.

O reator fechado é projetado para alta pureza com uma câmara inerte que não contém polímeros em contato com a zona de ablação. Processos à base de gás eliminam a necessidade de usar compostos químicos/surfactantes ou precursores para que não haja risco de contaminação cruzada ou formação de subprodutos durante a produção. As partículas são geradas como um aerossol, permitindo a seleção do método de deposição mais apropriado.

Em vez de oferecer partículas em um líquido ou pó estabilizado, a possibilidade de obter partículas em 24/7 no laboratório ou na instalação é oferecida, simplesmente, com o apertar de um botão.

  • Catálise: O modelo VSP-G1 produz partículas de extraordinária pureza, sem contaminação por nenhum líquido/surfactante. Com o mesmo sistema, é possível obter suportes de óxido porosos, como o material catalítico altamente monodisperso, simplesmente pressionando um botão.
  • Microeletrônica: Usando o VSP-G1 e eletrodos de cobre, é possível imprimir trilhas/cabos de nanopartículas. As aplicações para esta tecnologia são sensores de alta qualidade, circuitos impressos em escala de um mícron e eletrônica flexível.
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