VSParticle G1
El generador de nanopartículas de VSPARTICLE emplea el principio de la ablación eléctrica de un electrodo formado por el material en concreto a partir del que se obtienen las nanopartículas a tamaño controlado. Para ello, además del elemento de descarga eléctrica (controlada en energía y frecuencia de descarga), se dispone de un sistema de movimiento que permite mantener, de forma constante, la geometría y distancia entre el descargador y el electrodo. El tamaño se obtiene a partir de los procesos de aglomeración que se producen dentro del tubo del generador y que vienen gobernados por el caudal de gas de aporte, Argón o Nitrógeno ultrapuro.
Estos generadores presentan un elevado grado de control sobre el tamaño de las partículas monodispersas (en el rango de 0 a 20 nm), en su pureza (no existe contaminación por reacción con otros materiales) y en su composición. Todo ello, redunda en una forma sencilla y eficaz (plug and play) de producir nanopartículas con fines de investigación.
- Materiales soportados:
- Metales nobles:Pt, Au, Ag, Ru, Rh, Rd, Ir, W
- Otros:Cu, Al, Fe, Mg, Ti, V, Nb, Cr, Mo, Mn, Co, Ni, Zn, Ga, Ge, Si, C, Pb, Ag, Cd, In, Sn, Sb
- Aleaciones:Inox, Cu-Ni, Cr-Co, Au-Pd, Ag-Pd
- Distintos óxidos y materiales dopados:a demanda
- Presión de trabajo:Atmosférica.
- Temperatura de trabajo:Ambiente
- Caudal de gas:1 – 30 l/min
- Gas:Soportado: Ar o N2 con pureza 5.0
- Material del electrodo:Equipo básico con electrodo de Cu.
- Tamaño de partícula primaria:1 átomo a 20 nm
- Velocidad de ablación: 0,01 – 100 mg/h (dependiendo del material)
- Concentración:108 – 1011 #cm-3
El empleo de un diseño basado en un reactor cerrado proporciona un elevado grado de seguridad en el manejo de nanopartículas. Las operaciones de desmontaje/montaje, se realizan de forma muy sencilla, lo que facilita la limpieza y mantenimiento. El empleo de gases inertes reduce el riesgo de piroforicidad, pudiendo ser filtrados externamente al sistema y volver a emplearse cuando la producción se ha completado.
El reactor cerrado está pensado para elevada pureza con una cñámara inerte que no contiene polímeros en contacto con la zona de ablación. Los procesos basados en gases eliminan la necesidad de emplear compuestos químicos/tensioactivos o precursores por lo que no existe riesgo de contaminación cruzada o formación de subproductos durante la producción. Las partículas se generan como un aerosol, permitiendo la selección del método de deposición más adecuado.
En lugar de ofrecer partículas en un líquido estabilizado o polvo, se ofrece la posibilidad de obtener partículas en 24/7 en el laboratorio o instalación, simplemente, con el pulsado de un botón.
- Catálisis: El modelo VSP-G1 produce partículas de extraordinaria puereza, sin contaminación por cualquier líquido/tensioactivo. Con el mismo sistema es posible obtener soportes de óxido poroso, como el altamente material de catálisis monodisperso, simplemente, con apretar un botón.
- Microelectrónica: Empleando el VSP-G1 y electrodos de cobre es posible imprimir pistas/cables de nanopartículas. Las aplicaciones para esta tecnología son sensores de elevada calidad, circuitos impresosa escala de una micra y electrónica flexible.